maskwork topografia/modello tridimensionale di circuito integrato
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| Language pair: | English to Italian |
| Definition / notes: | Definition of Mask Work: Mask Works are defined in the Act as: a series of related images, however fixed or encoded (1) having or representing the predetermined three-dimensional pattern of metallic, insulating, or semiconductor material present or removed from the layers of a semiconductor chip product; and (2) in which series the relation of the images to one another is that each image has the pattern of the surface of one form of the semiconductor chip product. Similarly, integrated circuits are defined in the Act as: the final or intermediate form of any product (1) having two or more layers of metallic, insulating, or semiconductor material, deposited or otherwise placed on or etched away or otherwise removed from a piece of semiconductor material in accordance with a predetermined pattern; and (2) intended to perform electronic circuitry functions. Definizione in italiano (legge svizzera) I FONDAMENTI GIURIDICI • La Legge federale sulla protezione delle topografie di prodotti a semiconduttori (Legge sulle topografie, LTo) del 9 ottobre 1992 • L'Ordinanza sulla protezione delle topografie di prodotti a semiconduttori (Ordinanza sulle topografie) del 26 aprile 1993 (con modifica del 29 novembre 1993) • La Legge federale sul diritto d'autore e i diritti di protezione affini (Legge sul diritto d'autore LDA) del 9 ottobre 1992 • La Legge federale sulle procedure amministrative del 20 dicembre 1968 • Il Regolamento sulle tasse dell'Istituto Federale della Proprietà Intellettuale (RI-IPI) del 28 aprile 1997 L'OGGETTO DELLA PROTEZIONE Per semiconduttore (circuito integrato "chip") si intende la forma definitiva o la forma di transizione di un prodotto che di regola è costituito da una parte metallica provvista di uno o più strati di materiale conduttore, isolante o semiconduttore e che complessivamente si presenta come modello tridimensionale. L'oggetto della protezione è questo modello, vale a dire la struttura tridimensionale come risulta dal collegamento degli strati di cui è costituito un prodotto a semiconduttore. La legge sulle topografie definisce queste strutture come topografie (Art.1 par.1 LTo), per le quali la protezione sussiste indipendentemente dal tipo di determinazione o di codificazione. Viene protetta quindi soltanto la forma esterna di una topografia e non la funzione elettronica del prodotto a semiconduttore. Inoltre, le topografie non devono essere in uso al momento del loro sviluppo. Questo significa che una topografia non deve essere già conosciuta nella cerchia degli esperti. Non viene richiesta tuttavia, né una particolare prestazione inventiva, né un'impronta originale della topografia. Possono godere di protezione anche topografie costituite da componenti già conosciuti, nella misura in cui il loro assemblaggio non sia già conosciuto o in uso (Art1. par.2 LTo). http://www.ige.ch/I/urg/u11.htm |
| URL: | http://www.bitlaw.com/copyright/maskwork.html |
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